삼성전자, 美 반도체 생산라인에 40억弗 투자

삼성전자, 美 반도체 생산라인에 40억弗 투자

입력 2012-08-22 00:00
수정 2012-08-22 00:00
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28나노 첨단공정 생산 확대

삼성전자는 미국 텍사스주 오스틴 사업장의 첨단공정 라인 확장을 위해 40억 달러(약 4조 5000억원)를 투자하기로 했다고 21일 밝혔다. 이번 투자는 오스틴 사업장을 시스템 반도체 전용 생산라인으로 전환하는 것으로, 28나노 첨단공정을 적용한 제품의 생산능력 확대를 통해 스마트폰, 태블릿PC 등 고성능 모바일향 SoC(System on Chip)의 수요 증가에 대응하기 위한 것이라고 삼성전자는 설명했다.

삼성전자는 이달부터 확장을 위한 준비작업을 시작해 내년 하반기 양산을 목표로 하고 있다.

한편 삼성전자는 상반기에 연구·개발(R&D) 비용으로 5조 8000억원을 지출해 사상 최대를 기록했다.삼성전자는 시설에도 역대 최대인 13조 9000억원을 투자하는 등 상반기에 총 19조 7000억원을 지출했다.

류지영기자 superryu@seoul.co.kr



2012-08-22 20면
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